2019光学检测技术论坛
时间：11月14日 8:55-16:15
地址：中国光谷科技会展中心三层大会议厅2
会议主席
高志山 南京理工大学
刘世元 华中科技大学
嘉宾及报告内容
赵维谦 北京理工大学
嘉宾介绍：赵维谦，精密光电测试与仪器领域专家，现为北京理工大学仪器科学与技术学科教授、校信息与电子学部副主任、国务院学位委员会“仪器科学与技术学科”学科评议组成员等。曾入选长江学者特聘教授计划、国家百千万工程领军人才、新世纪百千万人才工程国家级人才计划等。长期从事精密光电测试技术与仪器装备的创新研究，研究成果曾获包括1项国家技术发明一等奖、1项国家技术发明二等奖和3项国防科学技术一等奖在内的近10项部级以上科技奖项等。发表SCI检索论文80余篇，授权发明专利100余项。
报告题目：激光差动共焦精密测量技术及系统
报告时间：11月14日 9:00-9:30
报告内容：光学测量领域存在一个共性的问题：由于受衍射极限的限制，制约了光学测量分辨能力和定焦能力的进一步提升，进而制约了光学成像/检测仪器精度性能的改善提高。针对此问题，本报告将结合国家重大需求和科技发展前沿，介绍提出的突破衍射极限的三维超分辨激光差动-相关共焦显微成像原理、实现微区形态性能参数探测的激光差动共焦多谱联用显微成像原理、规避衍射焦深的激光差动共焦层析定焦原理，以及基于这些新原理基础上发明的超分辨激光差动-相关共焦显微镜、激光差动共焦多谱联用显微镜和激光差动共焦干涉元件参数综合测量仪器的仪器化进展及应用，同时还将探讨激光差动共焦测量技术在跨尺度飞秒激光加工形态性能参数原位监测和大型自由曲面高精度测量等中的应用前景等。
杨鸿儒 西安应用光学研究所
嘉宾介绍：杨鸿儒，西安应用光学研究所教授，博士、博士生导师，主要从事光学计量和激光技术研究，承担多项国家重点项目的研究工作。曾获国家科技进步三等奖、中科院陕西省及国防科技工业科技进步一、二等奖等10余项，获国家发明专利5项。发表学术论文90多篇，SCI收录20多篇，EI收录50多篇。培养博士生9名、硕士生5名。曾在英国、新加坡、日本从事博士后及高访学者，曾任北京市“光学工程”学科特聘教授，中国计量测试学会光辐射计量测试委员会副主任，陕西省照明学会副理事长等，获陕西省“三五”人才、陕西省”优秀留学回国人员”等称号。
报告题目：国防太赫兹计量技术研究
报告时间：11月14日 9:30-10:00
报告内容：太赫兹辐射源、太赫兹时域光谱仪和太赫兹探测成像器件越来越多的应用于国防和民用领域，传统光学计量技术方法遇到了难以逾越的瓶颈，需要研究新的太赫兹计量技术。本文主要介绍了国内外太赫兹计量技术研究现状，国防光学计量站太赫兹领域研究进展，包括：太赫兹源辐射参数校准，材料太赫兹光谱测试以及太赫兹探测器校准。最后介绍了太赫兹计量技术发展趋势。
杨甬英 浙江大学
嘉宾介绍：杨甬英，博士、博导，浙江大学光电学院教授。现任中国光学学会光学测试专业委员会副主任委员。近年来作为项目负责人承担了多项国家自然科学基金重大科学仪器专项及国防项目。科研成果曾获国家科技进步三等奖、国家自然基金及联合基金特优奖、宝钢优秀教师奖等、发表论文100余篇、国家发明专利多项。目前专注的研究工作：光学元件表面缺陷数字化评价标准研究及检测技术、新型共路干涉仪车间现场实时化检测技术的产学研成果转化等。
报告题目：可用于精密元件表面质量评估的在线工业化智能检测技术
报告时间：11月14日10:00-10:30
报告内容：在先进光学制造超精密表面加工的评价、集成电路晶圆表面质量的检测、智能终端及手机表面外观缺陷检测等领域，加工水平不断提高，亟需一些利用在线的工业化智能检测技术来替代人工目视检测。本团队基于及多种缺陷成像模式、多环境自适应光源、人工智能的图像算法软件的表面缺陷自动化检测技术、基于多波前横向剪切的新型共路干涉技术，可以对一些精密元件的外观缺陷、微观形貌、元件的透射波前及光学系统像差等实现工业化智能检测。
高志山 南京理工大学
嘉宾介绍：高志山，博士，教授。中国光学学会理事，航天三院8358所客座研究员，中国宇航学会光电技术专业委员会常委，美国光学学会会员，中国光学学会光学测试专业委员会副主任，中国光学学会工程光学专业委员会委员，新版《光学手册》编委，科学出版社《光学与光子学》丛书编委，《激光与光电子进展》期刊编委，《应用光学》期刊编委。主要从事光学设计、光学测试、眼科医学光学、二元光学等方面的研究工作。
报告题目：微结构三维形貌干涉检测技术
报告时间：11月14日 10:45-11:15
报告内容：微结构器件主要包括二元光学衍射元件、微机电器件和微阵列器件，等等。一般地，该类器件具有宏观基底面形和微观浮雕的双重三维形貌，具有较强的像差校正能力或光场调控能力，在光学空间载荷、激光导引头、三维头盔显示和光学检测等方面具有广泛的应用。另一方面，随着高功率激光系统、激光定向能武器、紫外光刻投影方面的技术进步，对光学元件与掩模板的表面与内部缺陷，尤其是位相型缺陷，提出了迫切的检测要求。本文给出了研究团队近些年在微结构与位相型缺陷干涉检测方面的研究进展。
李大海 四川大学
嘉宾介绍：四川大学教授、博士生导师、博士，美国亚利桑那大学光学中心访问学者。主要从事波前检测技术研究、光电检测设备开发以及三维立体显示方面的研究工作。曾主持“863”项目、科技部“973”子课题，四川省科技支撑计划项目、中国工程物理研究院和交通部等合作研究项目。现主持国家自然科学基金面上项目，涉及大口径光学元件面形在线检测相关技术研究工作。获教育部技术发明、四川省科技进步等奖项，发表文章60余篇，授权专利10余项，主编“现代工程光学”教材一本。
报告题目：基于位相偏折术的高精度光学元件面形检测技术
报告时间：11月14日 11:15-11:45
报告内容：介绍本课题组提出的光学元件低阶像差测量误差控制技术，使位相测量偏折术实现平面及球面元件面形检测精度接近干涉仪，以及一种更为简易执行的无参考元件散斑偏折检测术，它们在高精度反射光学元件面形在线或在位检测可存潜在应用。
李松 武汉大学
嘉宾介绍：李松，湖北省光学学会常务副理事长兼秘书长，教育部深空探测中心有效载荷分中心主任，武汉大学二级教授、博士生导师。近5年来主持国防863、航天装备发展基金项目、军委型号背景预研项目、对地高分国家科技重大专项课题等，总经费超过4000万元，发表SCI、EI检索论文40余篇，申请发明专利23项，已获批国家发明专利18项，国防发明专利2项。以排名第一的身份先后获教育部技术发明一等奖1项，测绘科技进步一等奖、二等奖各1项。
报告题目：光子计数星载激光测高技术在对地观测中的应用
报告时间：11月14日 14:00-14:30
报告内容：报告以光子计数体制星载激光测高仪系统为背景，着重介绍了光子计数模式测距系统的探测理论和测距精度模型。其中探测理论包含了典型单光子探测器件的响应模型，噪声模型、信号模型等，测距精度模型重点讨论了测距系统在探测概率和虚警概率约束下的测距准确度和精确度，并展示了测距精度模型的实验验证结果。报告还展示了上述理论和模型在星载光子点云仿真、星载/机载点云数据处理以及点云分类等诸多场景的应用。
步扬 中国科学院上海光学精密机械研究所
报告题目：高端光刻机投影物镜波像差检测技术
报告时间：11月14日 14:30-15:00
报告内容：作为集成电路制造的核心装备，光刻机是决定集成电路特征尺寸和集成度的关键。光刻机关键性能指标的不断提升是集成电路按照摩尔定律不断向更高集成度发展的重要驱动力。成像质量是决定光刻机三大性能指标中分辨率和套刻精度的关键因素，正是成像质量的不断提高使得光刻机的性能得以持续提升。随着集成电路技术节点进入到130nm以下，光刻机投影物镜的波像差对成像质量的影响已不可忽略，对其进行高精度的检测与控制是实现高质量成像的重要保障。
课题组十几年来在投影光刻机波像差检测技术领域开展了系统深入的研究工作，取得了一系列的创新研究成果。本报告对我们课题组的这些研究工作进行了系统的介绍，内容包括基于光刻胶曝光的、基于空间像的和基于瞳面波前测量的波像差检测技术，涉及到的光刻机类型涵盖了干式、浸没式和极紫外光刻机。
范斌 中国科学院光电技术研究所
嘉宾介绍：范斌，工学博士、研究员，博士生导师，薄膜光学相机总体室主任，中国光学学会会员，国际光学工程学会会员（Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers, SPIE），中国光学学会光学制造专委会秘书长。长期从事先进光学制造技术研究，新型空间光学系统成像技术研究。作为项目负责人，先后承担了国家973基础研究项目、863高技术研究项目、科技部国家重点研发计划、中科院重点部署等十余项国家项目。
报告题目：轻量化微纳结构成像系统技术研究
报告时间：11月14日 15:15-15:45
报告内容：针对传统反射式空间大口径相机存在重量大、拼接难、折叠比大的难题，中科院光电所开展了大口径轻量化微纳结构成像光学系统技术研究，进行了轻量化微纳结构成像系统设计、光学元件加工及检测、相机系统参数测试、仿真验证和性能评估等工作。
张传维 华中科技大学
嘉宾介绍：张传维，博士，华中科技大学机械科学与工程学院副教授。主要从事纳米光学测量技术与仪器、新型椭偏仪研制与光电材料表征测量等方面的研究工作，先后主持或参与国家自然科学基金、科技部首批国家重大科学仪器设备开发专项、国家863计划等国家级科研项目10余项。获国际国内发明专利20余件，在Opt. Lett.、Opt. Express等期刊发表SCI论文30余篇。于2014年联合发起并组织 “全国光谱椭偏学研讨会”，已在武汉、南宁、深圳连续举办3届。
报告题目：先进椭偏测量技术及其在泛半导体领域工艺监测应用
报告时间：11月14日15:45-16:15
报告内容：发光二极管(LED)照明、有机发光(OLED)显示、光伏太阳能、集成电路芯片等泛半导体光电器件的一个共同特点，是由超薄层状纳米薄膜或纳米结构堆叠而成，每层厚度和结构尺寸都在数百个纳米到几个纳米。对于泛半导体器件所涉及的材料光电特性表征和结构参数在线监控，对于提高光电器件性能与产品良率具有关键性作用。先进椭偏测量技术可以同时测量获得材料光电物性与器件结构参数，具有快速、非破坏和高精度等优点，为泛半导体光电器件所涉及纳米级薄膜与结构参数在线监测提供了一种最有效的解决方案。
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